一般吸附劑的再生溫度為175～260℃。用分子篩時(shí)，再生溫度可高至260～370℃。脫水后干氣露點(diǎn)可降至-100 ℃。再生操作壓力通常與吸附操作壓力相同，偶而采用較低壓力再生以提高被吸附分子的脫附能力。再生過程的溫度變化曲線。吸附劑的再生過程可劃分為A、B、C、D四個(gè)階段，在A階段，烴類全部被脫附，水的脫附集中在階段B，階段C主要清除重?zé)N等不易脫附的物質(zhì)，增加再生后吸附劑的濕容量，階段D則冷卻床層至吸附溫度。T2≈110℃， T3≈127℃，TB≈116℃，T4≈175～260℃。再生氣體溫度和流量控制了每一階段的時(shí)間。
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